Pure Renewing Mask (Scrub & Mask) - Mesoestetic - 100 ml

Combinatievoordeel!

Wekelijkse poriënontstopping en zuiverend gezichtsmasker voor huidtypen die gevoelig zijn voor acne en seborroe. 

De opname van inerte korrels in het exclusieve m.acne complex ™ zorgt voor de mechanische exfoliërende en celvernieuwende werking voor een optimale controle van vette en acne-gevoelige huidtypen.

Ideaal én goedkoper in combinatie met het Anti-Stress Face Mask (100ml)!

Kies een variant:

Vanaf 42.00 €
Please select variants first

Acne vulgaris wordt veroorzaakt door een teveel aan androgeen dat een toename van keratinisatie en folliculaire peeling bevordert, evenals talgafscheiding. Dit veroorzaakt op zijn beurt obstructie van de huidporie en daaropvolgende ontsteking door de opportunistische werking van de bacteriële flora die op de huid aanwezig is, wat aanleiding geeft tot de typische acneletsels in de vorm van comedonen, papels, puisten en resterende hyperpigmentatie. 

Bexaretinyl complex

Chemische exfoliërende retinoïde die celvernieuwing van de pilosebaceous-eenheid stimuleert.

kaolien

Exfoliërende werking en absorptie van overtollig talg, wat de zachtheid van de huid verbetert.

Een keer per week

Breng een keer per week een laag zuiver vernieuwend masker aan op de gereinigde huid, vermijd contact met de oogcontour en slijmvliezen en laat 5-10 minuten inwerken. Voer vervolgens een zachte wrijvingsmassage uit om de microdeeltjes te helpen de onzuiverheden van het stratum corneum weg te voeren. Verwijderen met overvloedig water. Latere toepassing van dermatologische zonbescherming SPF50 + wordt geadviseerd in geval van blootstelling aan zonnestraling. Breng het Pure Renewing masker niet aan gedurende een periode waarin de patiënt wordt behandeld met het acne-peelsysteem.

Aqua, Paraffinum Liquidum, Glyceryl Stearate, Polyethylene, Sodium Hydroxide, Cetearyl Alcohol, Disodium Azelate, Glycerin, Mandelic Acid, Titanium Dioxide, Kaolin, Salicylic Acid, Cetyl Alcohol, Sorbitan Oleate, PEG-75 Stearate, Sclerotium gum, Shikimic Acid, Retinoxytrimethylsilane, Ceteth-20, Menthyl Lactate, Steareth-20, Alcohol denat., BHA, BHT, Sodium Cetearyl Sulfate, Sodium Lauryl Sulfate, Parfum, CI 19140, CI 42051, CI42053.